Влияние напряженности магнитного поля на формирование ионного пучка в одноступенчатом ускорителе с анодным слоем

Авторы: Омельницкий Д.А., Подгуйко Н.А.
Опубликовано в выпуске: #5(22)/2018
DOI: 10.18698/2541-8009-2018-5-320
Раздел: Физика | Рубрика: Физика плазмы
Ключевые слова: ускоритель с анодным слоем, напряженность магнитного поля, диффузный режим, режим ускорения, ионный пучок, расходимость ионного пучка, положительный объемный заряд, коллектор ионного тока
Опубликовано: 28.05.2018

Представлено исследование режимов работы ускорителя с анодным слоем. В ходе экспериментов было обнаружено, что существует такой диапазон напряженности магнитного поля в ускорительном канале ускорителей с анодным слоем, в котором ускоритель работает в так называемом диффузном режиме, за пределами этого диапазона имеет место режим ускорения. С помощью коллектора ионного тока наблюдали распад пучка при переходе в диффузный режим. Дано описание установки, на которой проводили эксперименты, перечислено составляющее ее оборудование, изложена суть экспериментов. Сделан вывод, что переход из режима ускорения в диффузный режим предположительно связан с ростом положительного объемного заряда ионного пучка.

Литература

[1] Крылов П.Н., Закирова Р.М., Федотова И.В., Гильмутдинов Ф.З. Влияние ионной обработки на свойства пленок In2O3: Sn. Физика и техника полупроводников, 2013, т. 47. № 6, с. 859–863.

[2] Зайцева Е.А., Закирова Р.М., Крылов П.Н., Лебедев К.С., Федотова И.В. Влияние ионной обработки в процессе ВЧ магнетронного распыления на толщину и показатель преломления ITO пленок. Вестник удмуртского университета. Серия физика и химия, 2012, № 4-2, с. 26–30.

[3] Достанко А.П., Агеев О.А., Голосов Д.А., Завадский С.М., Замбург Е.Г., Вакулов Д.Е., Вакулов З.Е. Электрические и оптические свойства пленок оксида цинка, нанесенных методом ионно-лучевого распыления оксидной мишени. Физика и техника полупроводников, 2014, т. 48, № 9, с. 1274–1279.

[4] Крынин А.Г., Хохлов Ю.А., Богатов В.А., Кисляков П.П. Прозрачные интерференционные покрытия для функциональных материалов остекления. Труды ВИАМ, 2013, № 11, с. 5.

[5] Воробьев Е.В., Духопельников Д.В., Ивахненко С.Г., Жуков А.В., Кириллов Д.В., Марахтанов М.К. Холловский ускоритель с фокусированным пучком для наноразмерной обработки крупногабаритных зеркал оптических телескопов. Вестник МГТУ им. Н.Э. Баумана. Сер. Машиностроение, 2011, № SP3, с. 35–41.

[6] Shabalin A., Amann M., Kishinevsky M., Nauman K., Quinn C. Industrial ion sources and their application for DLC coating. SVC — 42nd Annual Technical Conference Proc. Chicago, Illinois, 1999. 4 p.