Выравнивание потоков материалов в магнетронных распылительных системах

Авторы: Грешилов В.В.
Опубликовано в выпуске: #10(15)/2017
DOI: 10.18698/2541-8009-2017-10-185
Раздел: Авиационная и ракетно-космическая техника | Рубрика: Динамика, баллистика, управление движением летательных аппаратов
Ключевые слова: магнетронная распылительная система, тонкие пленки, маскирующие профили
Опубликовано: 09.10.2017

Для получения равномерных по толщине пленок методом магнетронного распыления применяют различные подходы. Один из наиболее популярных — использование спрофилированных маскирующих профилей. В данной работе представлена методика проектирования таких профилей. Предложенный способ изложен в теоретическом виде и проверен экспериментально. Для разработанного метода был создан модуль на языке Python. В ходе работы получен маскирующий контур, обеспечивающий отклонение равномерности толщины пленки ± 2 %.

Литература

[1] Духопельников Д.В. Магнетронные распылительные системы. Ч. 1. Устройство, принципы работы, применение. Москва, Изд-во МГТУ им. Н.Э. Баумана, 2014, 55 с.

[2] Духопельников Д.В., Кириллов Д.В., Марахтанов М.К., Воробьев Е.В., Булычёв В.С. Вакуумная дуга на поликристаллическом кремниевом катоде. Наука и образование: научное издание, 2014, № 11. URL: http://technomag.bmstu.ru/doc/748209.html.

[3] Sze S.M., Lee M.K. Semiconductor Devices: Physics and Technology. John Wiley & Sons, 2012, 582 p.

[4] Духопельников Д.В., Кириллов Д.В., Рязанов В.А., Вин Н.Ч. Оптимизация траектории движения катодного пятна для повышения равномерности выработки катода вакуумного дугового испарителя. Инженерный журнал: наука и инновации, 2013, № 10(22). URL: http://engjournal.ru/catalog/machin/plasma/1042.html.

[5] Духопельников Д.В., Кириллов Д.В., Воробьев Е.В., Ивахненко С.Г. Влияние выработки катода дугового испарителя на равномерность толщины покрытия и угловое распределение продуктов эрозии. Наука и образование: научное издание, 2014, № 4. URL: http://technomag.bmstu.ru/doc/707391.html.

[6] Francisco V., Martinez A., Regalado L.E. Correction masks for thickness uniformity in large-area thin films. Applied Optics, 2000, vol. 39, no. 10, pp. 1602–1610.

[7] Кузьмичев А.И. Магнетронные распылительные системы. Кн. 1. Введение в физику и технику магнетронного распыления. Киев, Аверс, 2008, 244 c.

[8] Perrin A., Gailliard J.P. Planetary system for high-uniformity deposited layers on large substrates. Thin Films for Optical Systems, 1993, vol. 1972, pp. 238–244.

[9] Клюева В.А. Исследование распределения толщины покрытия и углового распределения испаренного материала вакуумно-дугового испарителя с алюминиевым катодом. Молодежный научно-технический вестник, 2014, № 6. URL: http://sntbul.bmstu.ru/doc/723174.html.

[10] Духопельников Д.В., Кириллов Д.В., Воробьев Е.В., Ивахненко С.Г., Булычев В.С., Рязанов В.А., Афонин О.И. Решения МГТУ им. Н.Э. Баумана и компании «НПП «УВН» для тонкопленочной технологии оптической и электронной промышленности. Материалы XII Международной научно-технической конференции «Вакуумная техника, материалы и технология». Москва, Новелла, 2017.

[11] Духопельников Д.В., Воробьев Е.В., Ивахненко С.Г. Исследование и оптимизация характеристик ионного источника ИИ-200. Наука и образование: научное издание, 2011, № 10. URL: http://technomag.bmstu.ru/doc/230165.html.

[12] Духопельников Д.В., Воробьев Е.В., Ивахненко С.Г., Кириллов Д.В. Управление формой пучка технологического ионного источника для высокоточной обработки поверхности. Вестник МГТУ им. Н.Э. Баумана. Сер. Естественные науки, 2017, № 3, с. 24–36.