Поиск по ключевому слову "многослойная оптическая система"
Особенности фотолитографии в глубоком ультрафиолете
Авторы: Баклыков Д.А., Громов М.И., Тащев Р.А. | Опубликовано: 08.10.2019 |
Опубликовано в выпуске: #10(39)/2019 | |
DOI: 10.18698/2541-8009-2019-10-535 | |
Раздел: Машиностроение и машиноведение | Рубрика: Технологии и оборудование механической и физико-технической обработки | |
Ключевые слова: фотолитография в глубоком ультрафиолете, числовая апертура, критерий Рэлея, капельный источник плазмы, высокотемпературная плазма, многослойная оптическая система, фотошаблон, фоторезист |