| 
Поиск по ключевому слову "фоторезист"
Особенности фотолитографии в глубоком ультрафиолете
| Авторы: Баклыков Д.А., Громов М.И., Тащев Р.А. | Опубликовано: 08.10.2019 |
| Опубликовано в выпуске: #10(39)/2019 | |
| DOI: 10.18698/2541-8009-2019-10-535 | |
| Раздел: Машиностроение и машиноведение | Рубрика: Технологии и оборудование механической и физико-технической обработки | |
| Ключевые слова: фотолитография в глубоком ультрафиолете, числовая апертура, критерий Рэлея, капельный источник плазмы, высокотемпературная плазма, многослойная оптическая система, фотошаблон, фоторезист | |